· 可与光罩设备搭配使用(MASK EFEM)或独立分拣使用(MASK sorter)
· 可实现全自动化载具更换,各种运输盒(Hoya、ShinEtsu、Nikon、Canno等)之间和RSP光照盒(RSP150/RSP200/RSP EUV)之间转换
· 可客制化机械手搭配光罩片末端执行器,满足各种复杂的应用场景,包括reticle、mask、pellicle
· 可配置人工目检装置,风刀模组等,实现光罩片目检功能和表面颗粒吹扫功能
· 可配备温控模组对腔体内部实现恒温调节
· 可配备裸片存储模块,实现reticle store and auto transfer
材料 | 掩模,光罩,EUV |
载体 | RSP150,RSP200,双 EUVPod,各种运输盒 |
读取 ID 位置 | 光罩和薄膜 |
洁净度等级 | 优于 ISO Class1 |
第三方颗粒物检测 |
测量颗粒>1um(PDS) |
可选配强光目检工作站 |
0°到 360°翻转和目视检查 |
N2 或 XCDA 吹扫枪 | |
掩模 1D 和 2D 条形码阅读器 | |
薄膜 ID 读取器和测量相机 | |
掩模倒角识别 | |
掩模厚度测量 | 重复精度<0.2um(与测量模块集成) |
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